2000年9月5日
日立金属株式会社
磁気記録下地膜用Ｎｉ−Ａｌ系ターゲット材の特許取得
日立金属は、この度ハードディスク等の磁気記録媒体の下地膜として幅広く使用されている、スパッタリング用Ｎｉ−Ａｌ系ターゲット材に関する有効な国内特許を取得しましたので、お知らせいたします。
1．経緯
当社は高級特殊鋼で培った粉末冶金技術、圧延技術、合金技術を生かすことのできる高付加価値製品分野への事業展開を目指して、約15年前にターゲット材事業に進出しました。近年の市場拡大や積極的な拡販により、現在年商約50億円の事業に成長しています。
今回取得した特許はハードディスク下地膜に使用するターゲット材に関する国内特許です。現在、ハードディスクは記録容量の増大を目的として、アルミ基板からガラス基板への移行が積極的に進められています。
このような状況の中で、カーネギーメロン大学(米国ペンシルベニア州)は、ガラス基板を適用した磁気記録媒体の下地膜として、Ｎｉ-Ａｌ化合物膜(通常50％Ｎｉ、50％Ａｌ(AT%))を採用することにより記録容量の増大・ノイズの低減を可能にする技術を発表し、ハードディスクに関する特許を取得しました。
当社は、Ｎｉ-Ａｌ化合物膜の有効性をいち早く認識し、この技術を実現するための最適なターゲット材の開発に取り組み、当社独自の粉末冶金技術を生かしたターゲット材開発に成功し、その特許を取得しました。
2．特許の概要
本特許で規定するＮｉ−Ａｌ系ターゲット材は非常に脆い材料であることから製造が困難でしたが、当社は粉末焼結での製造方法を確立しました。
本特許はＮｉ−Ａｌ系ターゲット材を粉末冶金法で作製することを規定したものであり、最も基本的なターゲット材の特許です。
特長は次のとおりです。
| (1) |
従来の溶解・鋳造法とは異なる粉末冶金法によるＮｉ−Ａｌ系ターゲット材の作製方法を確立 |
| (2) |
粉末冶金法により結晶粒径の微細化に成功し、スパッタリング中の低パーティクル化およびターゲット材の高強度化により、ターゲット材の破断を抑え安定した使用状態を実現し、磁気記録媒体の生産効率の向上に貢献(図1) |
| (3) |
酸素量制御および各種元素添加を行ったＮｉ−Ａｌ系ターゲット材作製を容易にし、Ｎｉ−Ａｌ系膜の膜質改善および磁気記録媒体の開発促進に寄与 |
図1 Ｎｉ−Ａｌ系ターゲット材のミクロ組織と抗折力
3．本特許の用途
磁気記録媒体の下地膜の成膜
図2にアルミ基板とガラス基板の磁気記録媒体の構造を示します。今回開発したＮｉ−Ａｌ系ターゲット材はガラス基板の下地膜の成膜用です。
図2 磁気記録媒体の構造とその変遷
4．特許の件数
国内登録特許1件、海外出願中
5．販売計画(本特許製品)
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