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2002年 ニュースリリース

12月2日　

 

半導体製造装置用
高性能ハイブリッドマスフローコントローラ™の開発

----通常の40倍の流量制御が可能----
　日立金属は、この度、２種類のセンサーおよび連結タイプのアクチュエータを搭載することにより、通常のフルスケール流量（最大制御流量）に加え、その10倍から40倍の流量制御が可能な、FANTAS^®＊ハイブリッドマスフローコントローラ^™を開発いたしましたのでお知らせいたします。



FANTAS^® ハイブリッドマスフローコントローラ^™

1．開発の経緯

　 当社は、半導体などの薄膜製造に使用される精密ガス流量制御機器（マスフローコントローラ、メタルダイアフラムバルブおよび集積ユニット）を製造・販売しております。半導体製造装置におけるマスフローコントローラ（以下ＭＦＣ）は、製膜やエッチングの量をコントロールするガスの流量を最終的に制御する重要な装置です。
　近年、半導体の薄膜化、微細加工化、ＬＯＷ-Ｋ化（低誘電率化）、コストダウンなどの目的で、一つの装置で、ガスの大流量と小流量の両方を精度良くコントロールしたいというニーズが増加してきております。当社は、このようなニーズに応えるべく、２年前に、デュアルレンジＭＦＣを開発いたしました。このデュアルレンジＭＦＣは、フルスケール流量の約３倍までの流量をコントロールする事ができるため、Φ300mm用の新型装置などで採用され、新しい製造プロセスを実現してきました。
　最近では、１台のMFCでフルスケール流量に対して20倍などの一層の大流量制御のニーズが高まってきていました。
　今回のFANTAS^®ハイブリッドＭＦＣの開発により、このようなニーズに応えることが初めて可能になりました。なお、プロトタイプは一部の大手半導体製造装置メーカなどで既に使用開始されており、高い評価を得ております。

2．特長

　 従来の設置スペース（コンパクト面間、106ｍｍ）のままで、実績のあるハード構成を基本にしながら、次の新構造を採用することにより、通常のフルスケール流量の最大40倍までの制御が可能となりました。

１）	異なる概念のセンシングを組み合わせることにより、流量制御の範囲を大幅に拡大した流量の計測が可能。
２）	コントロールバルブであるピエゾアクチュエータを連結し、大流量時には大きく開弁することで、従来圧損のままフルスケール流量の最大40倍までの流量を流すことが可能。

3．特許

　 特許５件出願中。

4．販売開始時期

　 ２００３年１月

5．販売計画

　 ２００３年度 　３億円
　２００５年度 　５億円

6．製造及び販売

　 製造：株式会社桑名クリエイト サムリサーチ事業所（当社１００％子会社）
　販売：配管機器カンパニー

7．その他

　 12月４日（水）〜６日（金）に、日本コンベンションセンター・幕張メッセにて開催される「1セミコン・ジャパン 2002」に、当社も出展参加、本製品などの展示・紹介を行いますので、ご案内いたします。

(＊）FANTAS^®：当社の登録商標で高性能デジタルマスフローのシリーズ名


この件に関するお問い合わせ先

	（製品）	配管機器カンパニー	担当　野上　TEL　０３-５７６５-４２８６
	（報道関係）	広報室	担当　小林　TEL　０３-５７６５-４０７９